納米分散研磨技術(shù)進(jìn)展與砂磨機(jī)
筆者從事德國(guó)公司研磨機(jī)銷售業(yè)務(wù)數(shù)年，主要應(yīng)用領(lǐng)域可以1998年為區(qū)分點(diǎn)。1998年以前，企業(yè)界所面臨的問(wèn)題為如何提高分散研磨效率以降低勞力成本，如染料、涂料、油墨等產(chǎn)業(yè)。而1998年以后，產(chǎn)業(yè)技術(shù)瓶頸則為如何得到微細(xì)化（納米化）材料及如何將納米化材料分散到最終產(chǎn)品里，如光電業(yè)TFTLCD、Je tink、電子、磁性材料、醫(yī)藥、生物制藥和細(xì)胞破碎、氧化物、食品等行業(yè)。不論是傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)提升研磨效率求快或是高科技產(chǎn)業(yè)納米化材料求細(xì)，污染控制都同樣重要，所以細(xì)、快、更少污染已成為新一代分散研磨技術(shù)的重要課題之一。
本文將針對(duì)納米級(jí)分散研磨技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展、納米級(jí)分散研磨技術(shù)的原理、納米級(jí)研磨機(jī)的構(gòu)造、應(yīng)用實(shí)例及注意事項(xiàng)、結(jié)論及建議等主題進(jìn)行探討。
1 納米級(jí)分散研磨技術(shù)的現(xiàn)狀
1.1由下而上（Bottom up）和由大變?。═opdown）
隨著3C產(chǎn)品輕、薄、短小化及納米材料的應(yīng)用，如何將超微細(xì)研磨技術(shù)應(yīng)用于納米材料的制作及分散研磨已成為當(dāng)前的重要課題。納米粉體制備一般有兩種方法，一種為化學(xué)方法，是由下而上的制造方法（bottom up），如化學(xué)沉淀法、溶膠凝膠法（sol-gel）等，另一種方法為物理方法，即將粉體粒子由大變?。╰op down）如機(jī)械球磨法等。到目前為止，化學(xué)法或Bottom up的納米粉體制備方法大部分在學(xué)術(shù)界被研究且已有豐碩成果，但其制做成本有時(shí)相當(dāng)高，不易放大（scaleup），且得到的粒徑分布較大，所以到目前為止，企業(yè)界一般以物理機(jī)械研磨（top down）法為主。Top down方法較易得到粒徑分布較小的納米粉體，同時(shí)生產(chǎn)成本相對(duì)較低，容易將研發(fā)實(shí)驗(yàn)機(jī)臺(tái)所得參數(shù)放大（scale up）到量產(chǎn)機(jī)臺(tái)。盡管Top down方法目前只能研磨到30nm但已能基本滿足需求。
1.2干法研磨（Dry grinding）和濕法研磨（Wetgrinding）
對(duì)納米粉體制造廠而言，當(dāng)然希望以干法研磨得到最終納米粉體，但這種方法在研磨過(guò)程中，粉體溫度將因大量能量導(dǎo)入而急速上升，且當(dāng)顆粒微細(xì)化后，其防爆等問(wèn)題均是研磨機(jī)難以掌控的，所以一般而言，干法研磨的粒徑只能研磨到8μm。8μm以下粒徑就必須使用濕法研磨。所謂濕法研磨即先將納米粉體與適當(dāng)溶劑混和，調(diào)制成適當(dāng)材料。為了避免研磨過(guò)程中發(fā)生粉體團(tuán)聚現(xiàn)象，需加入適當(dāng)分散劑或助劑當(dāng)助磨劑。若希望最后納米級(jí)成品為粉體而非漿料，則需先將漿料中的大顆粒粒子過(guò)濾，再將過(guò)濾后的漿料干燥，得到納米粉體材料，所以，以濕法研磨得到納米粉體時(shí)，選擇適當(dāng)?shù)娜軇⒅鷦?、過(guò)濾方法及干燥方法是成功得到納米級(jí)粉體的關(guān)鍵技術(shù)。
1.3研磨（Grinding）和分散（Dispersing）
研磨即是利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖力（impactforce）將粉體由大顆粒研磨成小顆粒。分散是指經(jīng)添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆，納米顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting），分布（distributing）均勻且穩(wěn)定（stabilization）。納米粉體分散或研磨時(shí)，在粉體尺度由大變小的過(guò)程中，凡得瓦爾力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要，所以，選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次團(tuán)聚，以及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響是濕法研磨和分散得到納米級(jí)粉體的關(guān)鍵技術(shù)。
2 納米級(jí)粉體的分散研磨原理
機(jī)械的濕法研磨是得到納米級(jí)粉體最有效且最合乎經(jīng)濟(jì)效益方法。本文將針對(duì)濕法研磨及分散方法的原理及制程進(jìn)行探討。為了方便說(shuō)明，本文將以圖1-Puhler研磨機(jī)為例。圖1研磨機(jī)為一密閉系統(tǒng)，在其研磨室內(nèi)放了適當(dāng)?shù)哪デ颍ㄑ心ソ橘|(zhì)）。
本文將針對(duì)納米級(jí)分散研磨技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展、納米級(jí)分散研磨技術(shù)的原理、納米級(jí)研磨機(jī)的構(gòu)造、應(yīng)用實(shí)例及注意事項(xiàng)、結(jié)論及建議等主題進(jìn)行探討。
1 納米級(jí)分散研磨技術(shù)的現(xiàn)狀
1.1由下而上（Bottom up）和由大變?。═opdown）
隨著3C產(chǎn)品輕、薄、短小化及納米材料的應(yīng)用，如何將超微細(xì)研磨技術(shù)應(yīng)用于納米材料的制作及分散研磨已成為當(dāng)前的重要課題。納米粉體制備一般有兩種方法，一種為化學(xué)方法，是由下而上的制造方法（bottom up），如化學(xué)沉淀法、溶膠凝膠法（sol-gel）等，另一種方法為物理方法，即將粉體粒子由大變?。╰op down）如機(jī)械球磨法等。到目前為止，化學(xué)法或Bottom up的納米粉體制備方法大部分在學(xué)術(shù)界被研究且已有豐碩成果，但其制做成本有時(shí)相當(dāng)高，不易放大（scaleup），且得到的粒徑分布較大，所以到目前為止，企業(yè)界一般以物理機(jī)械研磨（top down）法為主。Top down方法較易得到粒徑分布較小的納米粉體，同時(shí)生產(chǎn)成本相對(duì)較低，容易將研發(fā)實(shí)驗(yàn)機(jī)臺(tái)所得參數(shù)放大（scale up）到量產(chǎn)機(jī)臺(tái)。盡管Top down方法目前只能研磨到30nm但已能基本滿足需求。
1.2干法研磨（Dry grinding）和濕法研磨（Wetgrinding）
對(duì)納米粉體制造廠而言，當(dāng)然希望以干法研磨得到最終納米粉體，但這種方法在研磨過(guò)程中，粉體溫度將因大量能量導(dǎo)入而急速上升，且當(dāng)顆粒微細(xì)化后，其防爆等問(wèn)題均是研磨機(jī)難以掌控的，所以一般而言，干法研磨的粒徑只能研磨到8μm。8μm以下粒徑就必須使用濕法研磨。所謂濕法研磨即先將納米粉體與適當(dāng)溶劑混和，調(diào)制成適當(dāng)材料。為了避免研磨過(guò)程中發(fā)生粉體團(tuán)聚現(xiàn)象，需加入適當(dāng)分散劑或助劑當(dāng)助磨劑。若希望最后納米級(jí)成品為粉體而非漿料，則需先將漿料中的大顆粒粒子過(guò)濾，再將過(guò)濾后的漿料干燥，得到納米粉體材料，所以，以濕法研磨得到納米粉體時(shí)，選擇適當(dāng)?shù)娜軇⒅鷦?、過(guò)濾方法及干燥方法是成功得到納米級(jí)粉體的關(guān)鍵技術(shù)。
1.3研磨（Grinding）和分散（Dispersing）
研磨即是利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖力（impactforce）將粉體由大顆粒研磨成小顆粒。分散是指經(jīng)添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆，納米顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting），分布（distributing）均勻且穩(wěn)定（stabilization）。納米粉體分散或研磨時(shí)，在粉體尺度由大變小的過(guò)程中，凡得瓦爾力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要，所以，選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次團(tuán)聚，以及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響是濕法研磨和分散得到納米級(jí)粉體的關(guān)鍵技術(shù)。
2 納米級(jí)粉體的分散研磨原理
機(jī)械的濕法研磨是得到納米級(jí)粉體最有效且最合乎經(jīng)濟(jì)效益方法。本文將針對(duì)濕法研磨及分散方法的原理及制程進(jìn)行探討。為了方便說(shuō)明，本文將以圖1-Puhler研磨機(jī)為例。圖1研磨機(jī)為一密閉系統(tǒng)，在其研磨室內(nèi)放了適當(dāng)?shù)哪デ颍ㄑ心ソ橘|(zhì)）。
如圖2所示，馬達(dá)利用皮帶傳動(dòng)攪拌轉(zhuǎn)子，通過(guò)磨球運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生剪切力（shear force），漿料因Pump推力與磨球形成剪切力，當(dāng)其粒徑小于研磨室內(nèi)分離磨球與漿料的動(dòng)態(tài)大流量分離器濾網(wǎng)間隙大小時(shí)，漿料被離心力擠出料桶槽，達(dá)到分散研磨效果。
上述過(guò)程為研磨1個(gè)pass，若粒徑未達(dá)到要求則可以重復(fù)進(jìn)行循環(huán)研磨，直到粒徑達(dá)到要求。其流程如圖3所示。
2.1 漿料前處理及預(yù)攪拌（Pre-mixing）
本系統(tǒng)能否成功地達(dá)到研磨或分散目的，主要取決于研磨介質(zhì)（即磨球）大小及材質(zhì)選擇。以筆者曾規(guī)劃及實(shí)際試車數(shù)百?gòu)S經(jīng)驗(yàn)，所選擇磨球需為0.1-0.4mm或以下。為了不讓磨球在研磨過(guò)程中受漿料X軸方向移動(dòng)的推力影響堵在濾網(wǎng)附近，導(dǎo)致研磨室因壓力太高而停機(jī)，其攪拌轉(zhuǎn)子線速度需超過(guò)10m/sec以上，而漿料粘度控制調(diào)整到100cps以下，以便磨球運(yùn)動(dòng)不受漿料粘度影響，并且，漿料的固體成分（solid content by weight）需控制在35％以下，以防止研磨過(guò)程中因粉體比表面積增加，導(dǎo)致粘度上升而無(wú)法繼續(xù)使用小磨球。同時(shí)，為了避免0.3-0.4mm磨球從動(dòng)態(tài)分離器流出研磨室或塞在濾網(wǎng)上，濾網(wǎng)間隙需調(diào)整到0.1mm。其關(guān)系如表1所示。
為了達(dá)到表1要求，前處理或預(yù)攪拌時(shí)應(yīng)依下列法則準(zhǔn)備研磨前漿料整理：
1）確定研磨后的粒徑要求（target fineness）。
2）漿料粘度（viscosity）、固含量、研磨前細(xì)度（start fineness）、最終要求細(xì)度（Target）滿足表1要求。
3）預(yù)攪拌或前處理系統(tǒng)攪拌轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速需為高線速度（High speed）設(shè)計(jì)。建議切線速度為2-13m/sec，以避免漿料沉淀或不均勻。
2.2 研磨機(jī)部份
為了快速達(dá)到研磨粒徑要求并使研磨機(jī)可以正常運(yùn)轉(zhuǎn)，其控制法則及參數(shù)如下：
1）磨球選擇將決定能否成功研磨并達(dá)到粒徑要求，所以，應(yīng)依照所需粒徑要求選擇適當(dāng)?shù)哪デ?，例如，若需達(dá)到納米級(jí)要求且避免磨球損耗，需選擇釔穩(wěn)氧化鋯磨球，莫氏硬度越大越好，磨球表面需為真圓，沒(méi)有孔隙，磨球大小為0.05-0.4mm。
2）依據(jù)磨球大小及漿料黏滯性調(diào)整適當(dāng)?shù)臄嚢柁D(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速。一般納米級(jí)研磨，轉(zhuǎn)速需達(dá)12.5m/sec以上。
3）控制研磨漿料溫度。一般納米級(jí)漿料的研磨溫度需控制在45℃以下。影響漿料溫度的主要參數(shù)為控制轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速、磨球充填率、研磨桶熱交換面積大小、冷卻水條件及流量。
4）依據(jù)磨球大小選擇適當(dāng)動(dòng)態(tài)分離系統(tǒng)間隙。一般間隙為磨球直徑的1/2-1/3。
5）調(diào)整Pump轉(zhuǎn)速。在研磨桶可以承受壓力的范圍內(nèi)，Pump轉(zhuǎn)速越大越好，如此，可以在同一研磨時(shí)間內(nèi)增加漿料經(jīng)過(guò)研磨機(jī)研磨的次數(shù)，以得到較窄的粒徑分布。
6）記錄研磨機(jī)所需消耗的電能kW值。
7）取樣時(shí)，記錄每個(gè)樣品的比能量（specific energy）值，并在分析該粒徑大小后，將比能量與平均粒徑關(guān)系做出，以利將來(lái)Scale up用。
8）達(dá)到所需比能量值時(shí)即可停機(jī)。此時(shí)，原則上已達(dá)到所需研磨分散平均粒徑要求了。
本系統(tǒng)能否成功地達(dá)到研磨或分散目的，主要取決于研磨介質(zhì)（即磨球）大小及材質(zhì)選擇。以筆者曾規(guī)劃及實(shí)際試車數(shù)百?gòu)S經(jīng)驗(yàn)，所選擇磨球需為0.1-0.4mm或以下。為了不讓磨球在研磨過(guò)程中受漿料X軸方向移動(dòng)的推力影響堵在濾網(wǎng)附近，導(dǎo)致研磨室因壓力太高而停機(jī)，其攪拌轉(zhuǎn)子線速度需超過(guò)10m/sec以上，而漿料粘度控制調(diào)整到100cps以下，以便磨球運(yùn)動(dòng)不受漿料粘度影響，并且，漿料的固體成分（solid content by weight）需控制在35％以下，以防止研磨過(guò)程中因粉體比表面積增加，導(dǎo)致粘度上升而無(wú)法繼續(xù)使用小磨球。同時(shí)，為了避免0.3-0.4mm磨球從動(dòng)態(tài)分離器流出研磨室或塞在濾網(wǎng)上，濾網(wǎng)間隙需調(diào)整到0.1mm。其關(guān)系如表1所示。
為了達(dá)到表1要求，前處理或預(yù)攪拌時(shí)應(yīng)依下列法則準(zhǔn)備研磨前漿料整理：
1）確定研磨后的粒徑要求（target fineness）。
2）漿料粘度（viscosity）、固含量、研磨前細(xì)度（start fineness）、最終要求細(xì)度（Target）滿足表1要求。
3）預(yù)攪拌或前處理系統(tǒng)攪拌轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速需為高線速度（High speed）設(shè)計(jì)。建議切線速度為2-13m/sec，以避免漿料沉淀或不均勻。
2.2 研磨機(jī)部份
為了快速達(dá)到研磨粒徑要求并使研磨機(jī)可以正常運(yùn)轉(zhuǎn)，其控制法則及參數(shù)如下：
1）磨球選擇將決定能否成功研磨并達(dá)到粒徑要求，所以，應(yīng)依照所需粒徑要求選擇適當(dāng)?shù)哪デ?，例如，若需達(dá)到納米級(jí)要求且避免磨球損耗，需選擇釔穩(wěn)氧化鋯磨球，莫氏硬度越大越好，磨球表面需為真圓，沒(méi)有孔隙，磨球大小為0.05-0.4mm。
2）依據(jù)磨球大小及漿料黏滯性調(diào)整適當(dāng)?shù)臄嚢柁D(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速。一般納米級(jí)研磨，轉(zhuǎn)速需達(dá)12.5m/sec以上。
3）控制研磨漿料溫度。一般納米級(jí)漿料的研磨溫度需控制在45℃以下。影響漿料溫度的主要參數(shù)為控制轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速、磨球充填率、研磨桶熱交換面積大小、冷卻水條件及流量。
4）依據(jù)磨球大小選擇適當(dāng)動(dòng)態(tài)分離系統(tǒng)間隙。一般間隙為磨球直徑的1/2-1/3。
5）調(diào)整Pump轉(zhuǎn)速。在研磨桶可以承受壓力的范圍內(nèi)，Pump轉(zhuǎn)速越大越好，如此，可以在同一研磨時(shí)間內(nèi)增加漿料經(jīng)過(guò)研磨機(jī)研磨的次數(shù)，以得到較窄的粒徑分布。
6）記錄研磨機(jī)所需消耗的電能kW值。
7）取樣時(shí)，記錄每個(gè)樣品的比能量（specific energy）值，并在分析該粒徑大小后，將比能量與平均粒徑關(guān)系做出，以利將來(lái)Scale up用。
8）達(dá)到所需比能量值時(shí)即可停機(jī)。此時(shí)，原則上已達(dá)到所需研磨分散平均粒徑要求了。
2.3循環(huán)桶部分
一般要得到納米級(jí)粉體，均需利用研磨機(jī)研磨數(shù)十次，甚至上百次。為了節(jié)省人力及有利于自動(dòng)化、無(wú)人化操作，筆者極力推薦使用循環(huán)式操作模式（recirculation operation mode）做納米級(jí)粉體研磨。重點(diǎn)如下：
1）循環(huán)桶不宜太大。若研磨機(jī)最大流量為3000L/h時(shí)，則移動(dòng)缸最大容量為500L。一般循環(huán)桶大小為研磨機(jī)最大容許流量的1/5-1/10為宜，如此，可以增加循環(huán)桶槽內(nèi)漿料在同一時(shí)間經(jīng)過(guò)研磨機(jī)的研磨次數(shù)，以得到較好的粒徑分布。
2）循環(huán)桶需有攪拌葉片設(shè)計(jì)，攪拌速度不宜過(guò)快，以0-3m/sec為宜，以避免氣泡產(chǎn)生。
3）循環(huán)桶槽需有熱夾套層設(shè)計(jì)，以增加研磨效率。若要有效得到納米級(jí)粉體分散研磨，上述前處理、研磨機(jī)及循環(huán)桶等要素均需具備，缺一不可。
4）決定平均粒徑（D50）的方法。若漿料配方和研磨機(jī)操作條件固定，平均粒徑將取決于比能量（specific energy）值。
5）磨球大小對(duì)研磨結(jié)果的影響。由圖5可知，不同磨球大小將影響所需的比能量值。當(dāng)使用1.0-1.4mm磨球研磨碳酸鈣時(shí)，需320kWh/t才可達(dá)到粒徑D80<2μm，但當(dāng)比能量E值達(dá)到96kWh/t后，改用0.6-0.8mm磨球繼續(xù)研磨，則只需要比能量180kWh/t即可達(dá)到相同粒徑D80<2μm。若漿料起始粒徑先處理得更小，例如20μm以下，則可以改用0.2-0.6mm磨球研磨，其達(dá)到D80<2μm所需的比能量值將可再大大縮小。由此可以得知，磨球越小，其研磨效果越好，所需比能量值越小。
一般要得到納米級(jí)粉體，均需利用研磨機(jī)研磨數(shù)十次，甚至上百次。為了節(jié)省人力及有利于自動(dòng)化、無(wú)人化操作，筆者極力推薦使用循環(huán)式操作模式（recirculation operation mode）做納米級(jí)粉體研磨。重點(diǎn)如下：
1）循環(huán)桶不宜太大。若研磨機(jī)最大流量為3000L/h時(shí)，則移動(dòng)缸最大容量為500L。一般循環(huán)桶大小為研磨機(jī)最大容許流量的1/5-1/10為宜，如此，可以增加循環(huán)桶槽內(nèi)漿料在同一時(shí)間經(jīng)過(guò)研磨機(jī)的研磨次數(shù)，以得到較好的粒徑分布。
2）循環(huán)桶需有攪拌葉片設(shè)計(jì)，攪拌速度不宜過(guò)快，以0-3m/sec為宜，以避免氣泡產(chǎn)生。
3）循環(huán)桶槽需有熱夾套層設(shè)計(jì)，以增加研磨效率。若要有效得到納米級(jí)粉體分散研磨，上述前處理、研磨機(jī)及循環(huán)桶等要素均需具備，缺一不可。
4）決定平均粒徑（D50）的方法。若漿料配方和研磨機(jī)操作條件固定，平均粒徑將取決于比能量（specific energy）值。
5）磨球大小對(duì)研磨結(jié)果的影響。由圖5可知，不同磨球大小將影響所需的比能量值。當(dāng)使用1.0-1.4mm磨球研磨碳酸鈣時(shí)，需320kWh/t才可達(dá)到粒徑D80<2μm，但當(dāng)比能量E值達(dá)到96kWh/t后，改用0.6-0.8mm磨球繼續(xù)研磨，則只需要比能量180kWh/t即可達(dá)到相同粒徑D80<2μm。若漿料起始粒徑先處理得更小，例如20μm以下，則可以改用0.2-0.6mm磨球研磨，其達(dá)到D80<2μm所需的比能量值將可再大大縮小。由此可以得知，磨球越小，其研磨效果越好，所需比能量值越小。
3 新一代納米級(jí)研磨機(jī)構(gòu)造
由以上分析可知，若想有效地完成納米級(jí)粉體的分散研磨，大流量、小磨球已成為不可或缺的法則，因此，新一代納米級(jí)研磨機(jī)構(gòu)造需能滿足“大流量、小磨球”設(shè)計(jì)。
1）原則上，好的研磨室是體積小、產(chǎn)能高，這樣可以降低漿料殘余量，方便設(shè)備清洗。
2）分離機(jī)構(gòu)（即專利動(dòng)態(tài)大流量分離器）間隙可根據(jù)磨球大小而任意調(diào)整，同時(shí)，濾網(wǎng)面積越大則研磨機(jī)所能使用流量將越大，更能滿足”大流量、小磨球”原則。如圖9所示，濾網(wǎng)間隙需為磨球大小的1/2-1/3。
3）研磨桶需有大面積熱夾套層設(shè)計(jì)，以利于將熱量帶走并控制好研磨漿料溫度。
4）研磨桶內(nèi)，所有與漿料接觸部分材質(zhì)需適當(dāng)?shù)剡x擇，以避免產(chǎn)生污染。如金屬離子析出等問(wèn)題。
因?yàn)榧{米級(jí)粉體研磨需使用小磨球、高轉(zhuǎn)速、高能量密度等，同時(shí)亦需避免污染產(chǎn)生，一般歐洲產(chǎn)設(shè)備較適合。若已有國(guó)產(chǎn)或日制設(shè)備，則可以以現(xiàn)有設(shè)備做粗磨工藝，然后以歐洲設(shè)備做最后一階段的超細(xì)納米研磨，以達(dá)到”物盡其用”的最佳應(yīng)用。
4 結(jié)論
以“大流量、小磨球”為納米級(jí)粉體研磨主要依循法則，要達(dá)到細(xì)、快、更少污染納米級(jí)粉體研磨要求，需滿足下列條件：
1）認(rèn)清研磨材料的特性。
2）根據(jù)材料特性要求使用適當(dāng)?shù)难心C(jī)。
3）搭配適當(dāng)配套設(shè)備，如冰水機(jī)、壓縮空氣機(jī)、預(yù)攪拌機(jī)及移動(dòng)物料桶等。
4）使用合適的助劑。
5）與上、下游有完善的溝通，調(diào)整最佳配方與研磨條件，以提高納米粉體的相容性。
作者：雷立猛（德國(guó)派勒國(guó)際控股集團(tuán)廣州派勒機(jī)械設(shè)備有限公司， 廣東廣州510700）
來(lái)源：中國(guó)粉體技術(shù)網(wǎng)
